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磁控濺射法生長Fe膜及其性質分析
磁控濺射法生長Fe膜及其性質分析
摘要：磁控濺射技術已經成為各種功能薄膜的重要手段并且在多個領域得到廣泛的應用 。利用新型的磁控濺射技術能夠實現薄膜的高速沉積、高純薄膜制備、提高反應濺射沉積薄膜的質量等。本文在了解磁控濺射原理的基礎上,對磁控濺射方法制作的Fe納米薄膜進行XRD,STM，VSM分析,估計薄膜的厚度并研究其表面形貌,結構表征，磁性質等相關性質。
關鍵詞：磁控濺射 Fe納米薄膜，表面形貌，結構表征，磁性質
Characterization Analysis of Fe Thin Film Made by Magnetron Sputtering Technique
Kang li
School of Physical Since and Technology, Southwest China University, Chongqing 400715, China
Abstract: The magnetron sputtering technique have already become deposition to bear to whet、bear eclipse、decorate、optical and other various important means of function thin film and gotten a more extensive application in several realms, it is a current research of a little bit hot that using of the magnetron sputtering technique to make the function thin film on light-electricity、light-hot、magnetic、superconductor、medium、catalyst etc. This text based on the understanding of the principle of the magnetron sputtering, analysis using of the method the magnetron sputtering technique is to make Fe thin film under the certain condition, and make approximation of the thickness of thin film, then analysis the surface and structure features and magnetic property.
Key words: The magnetron sputtering F e-thin film surface and structure feature magnetic property
引言
納米科學技術是20世紀80年代中后期逐漸發展起來的，融介觀體系物理、量子力學等現代科學為1體并與超微細加工、計算機、掃描隧道顯微鏡等先進工程技術相結合的多方位、多學科的新科技。它是在1～100ｎｍ尺度上研究自然界現象中原子、分子行為與規律，以期在深化對客觀世界認識的基礎上，實現由人類按需要制造出性能獨特的產品。納米科技的出現，無疑是現代科學的重大突破，它在材料科學、凝聚態物理學、機械制造、信息科學、電子技術、生物遺傳、高分子化學以及國防和空間技術等眾多領域都有著廣闊的應用前景，因而對它的研究受到了世界范圍的高度重視。納米科技的研究與發展，無疑將極大地改變人們的思維方式和傳統觀念，深刻影響國民經濟的未來發展[1]。
在本文中我采用磁控濺射方法在1定條件下制作Fe納米薄膜樣品,并研究了它的磁性質及結構,表面形貌等相關性質.
1.濺射鍍膜基礎
濺射鍍膜通常是利用氣體放電產生的正離子在電場作用下高速轟擊作為陰極的靶體，使靶體中的原子（或分子）逸出，沉積到被鍍基體的表面，形成所需要的薄膜。由于濺射鍍膜能制備許多不同成分和特性的功能薄膜，因此，現在已經發展成為1種重要的鍍膜方式。
1.濺射基本原理
第1種假設認為，離子碰撞1個特定的位置所引起的局部加熱使粒子
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